Resolution improvements on poly(methyl methacrylate) as electron-beam lithography resist - Arrieta Navarro, José Pablo 1987- ([San José], Costa Rica, 2012)
Tesis (maestría académica en física)--Universidad de Costa Rica. Sistema de Estudios de Posgrado, 2012
Keywords: METACRILATO DE METILO; LITOGRAFIA DE HACES ELECTRONICOS; DISPERSION (FISICA); MEDICION