MOS (metal oxide semiconductor) phisics and technology

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Nicollian, E. H.
Otros Autores: Brews, J. R.
Formato: Libro
Lenguaje:English
Publicado: New York J. Wiley 1982
Materias:
LEADER 00858nam a2200241 a 4500
001 000000030714
003 OSt
005 20160505111640.0
008 160505b xxu||||| |||| 00| 0 eng d
040 |a Sistema de Bibliotecas UNAH 
082 0 |a 621.38152-N64 
100 1 |a Nicollian, E. H. 
245 1 0 |a MOS (metal oxide semiconductor) phisics and technology  |c E. H. Nicollian, J. R. Brews 
260 |c 1982  |a New York  |b J. Wiley 
300 |a 906 p. 
500 |a Apéndice: p. 930-878 
504 |a Incluye referencias bibliográficas 
650 4 |a SEMICONDUCTOR DE OXIDO METÁLICO 
700 1 |a Brews, J. R. 
942 |2 ddc  |c LB 
999 |c 30714  |d 30714 
952 |0 0  |1 0  |2 ddc  |4 0  |6 621_000000000000000_38152N64  |7 0  |9 101221  |a CG  |b BC  |l 0  |o 621.38152-N64  |p 391955  |y LB 
952 |0 0  |1 0  |2 ddc  |4 0  |6 621_000000000000000_38152N64  |7 0  |9 101222  |a CG  |b BC  |l 0  |o 621.38152-N64  |p 391956  |y LB