Advanced nanoscale ULSI interconnects : fundamentals and applications /

Detalles Bibliográficos
Otros Autores: Shacham-Diamand, Yosi (Editor ), Osaka, Tetsuya (Editor ), Datta, Madhav (Editor ), Ohba, Takayuki (Editor )
Formato: eBook
Lenguaje:English
Publicado: New York, Estados Unidos : Springer, 2009.
Edición:1st edition
Materias:
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040 |a Sistema de Bibliotecas del Tecnológico de Costa Rica 
245 0 0 |a Advanced nanoscale ULSI interconnects :  |b fundamentals and applications /  |c editores Yosi Shacham-Diamand, Tetsuya Osaka, Madhav Datta, Takayuki Ohba. 
250 |a 1st edition  |b (1 edición) 
260 |a New York, Estados Unidos :  |b Springer,  |c 2009. 
300 |a 1 recurso en línea :  |b ilustraciones, gráficas, tablas. 
336 |a texto  |b txt  |2 rdacontenido 
337 |a computadora  |b c  |2 rdamedio 
338 |a recurso en línea  |b cr  |2 rdaportador 
500 |a Base de Datos Springer 
505 0 |a Cada capítulo contiene referencias 
590 |a TECN 
590 |a ELEC 
590 |a META 
590 |a QUIM 
650 1 7 |a Ciencia de los materiales  |2 Tesauro SIBITEC 
650 1 7 |a Ingenieria eléctrica  |2 Tesauro SIBITEC 
650 1 7 |a Ingeniería química  |2 Tesauro SIBITEC 
650 1 7 |a Electrodeposición  |2 Tesauro SIBITEC 
650 1 7 |a Electroquímica  |2 Tesauro SIBITEC 
655 4 |a Libros electrónicos 
700 1 |a Shacham-Diamand, Yosi,  |e editor 
700 1 |a Osaka, Tetsuya,  |e editor 
700 1 |a Datta, Madhav,  |e editor 
700 1 |a Ohba, Takayuki,  |e editor 
903 |a Annette  |b 2024/03/05