Advanced nanoscale ULSI interconnects : fundamentals and applications /

Detalles Bibliográficos
Formato: Libro
Lenguaje:English
Publicado: New York : Springer, [2009].
Acceso en línea:Ver documento en línea
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020 |a 9780387958682  |q (ebook) 
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040 |a Sistema de Bibliotecas de Universidad de Costa Rica  
245 1 0 |a Advanced nanoscale ULSI interconnects :  |b fundamentals and applications /  |c Yosi Shacham-Diamand, Tetsuya Osaka, Madhav Datta, Takayuki Ohba, editors ; contributors Bulent M. Basol, A.M. Bittner, David Brandon, James Castracane, Schubert S. Chu [y otros cincuenta y cuatro]. 
264 1 |a New York :  |b Springer,  |c [2009]. 
264 4 |c ©2009 
300 |a 1 recurso en línea (xx, 552 páginas) :  |b ilustraciones (algunas a color), diagramas (algunos a color), fotografías (principalmente a color), gráficos (algunos a color), archivo de texto, PDF. 
500 |a La función de los autores fue determinada por el catalogador 
506 |a Acceso al texto completo para la comunidad de la UCR por medio de la cuenta institucional 
530 |a También disponible en formato EPUB 
856 4 1 |u https://springerlink.proxyucr.elogim.com/book/10.1007/978-0-387-95868-2  |y Ver documento en línea 
916 |a Centro Catalográfico 
949 |a -VTL