Advances in CMP polishing technologies /

Detalles Bibliográficos
Autor principal:	Doi, Toshiro
Otros Autores:	Marinescu, Ioan D. (Editor ), Syuhei Kurokawa (Editor )
Formato:	Libro
Lenguaje:	English
Publicado:	Reino Unido : William Andrew Publishing, 2011.
Materias:	Componentes mecánicos Componentes electrónicos Semiconductores Dispositivos electrónicos Innovaciones tecnológicas Desarrollo de la industria electrónica Libros electrónicos

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