Advances in CMP polishing technologies /

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Doi, Toshiro
Otros Autores: Marinescu, Ioan D. (Editor ), Syuhei Kurokawa (Editor )
Formato: Libro
Lenguaje:English
Publicado: Reino Unido : William Andrew Publishing, 2011.
Materias:

Sistema de Bibliotecas del Tecnológico de Costa Rica

Detalle de Existencias desde Sistema de Bibliotecas del Tecnológico de Costa Rica
Copia Disponible