Advances in CMP polishing technologies /

Bibliographic Details
Main Author: Doi, Toshiro
Other Authors: Marinescu, Ioan D. (Editor), Syuhei Kurokawa (Editor)
Format: Book
Language:English
Published: Reino Unido : William Andrew Publishing, 2011.
Subjects:
Description
Physical Description:1 recurso en línea : ilustraciones, diagramas, fotografías, gráficas.
Bibliography:Referencias
ISBN:9781437778595