Advances in CMP polishing technologies /

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Bibliographic Details
Main Author: Doi, Toshiro
Other Authors: Marinescu, Ioan D. (Editor), Syuhei Kurokawa (Editor)
Format: Book
Language:English
Published: Reino Unido : William Andrew Publishing, 2011.
Subjects:
Componentes mecánicos
Componentes electrónicos
Semiconductores
Dispositivos electrónicos
Innovaciones tecnológicas
Desarrollo de la industria electrónica
Libros electrónicos

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