Atomic layer deposition : principles, characteristics, and nanotechnology applications /

Detalles Bibliográficos
Otros Autores: Kääriäinen, Tommi (creador), Cameron, David (creador), Kääriäinen, Marja Leena (creadora), Sherman, Arthur (creador)
Formato: Libro
Lenguaje:English
Publicado: 2013.
Edición:Second Edition
Materias:
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020 |a 9781118747407  |q (e-book) 
040 |a Sistema de Bibliotecas del Tecnológico de Costa Rica 
245 0 0 |a Atomic layer deposition :  |b principles, characteristics, and nanotechnology applications /  |c creadores Tommi Kääriäinen, David Cameron, Marja Leena Kääriäinen, Arthur Sherman. 
250 |a Second Edition  |b (2 edición) 
260 |c 2013. 
300 |a 1 recurso en línea :  |b ilustraciones, gráficas. 
336 |a texto  |b txt  |2 rdacontenido 
337 |a computadora  |b c  |2 rdamedio 
338 |a recurso en línea  |b cr  |2 rdaportador 
500 |a Incluye índice. 
504 |a Referencias al final de cada capítulo. 
505 0 |a Resumen en cada capítulo. 
590 |a INGE 
590 |a TECN 
590 |a META 
650 1 7 |a Aplicaciones de la nanotecnología  |2 Tesauro SIBITEC 
650 1 7 |a Tecnología de deposición  |2 Tesauro SIBITEC 
650 1 7 |a Materiales orgánicos  |2 Tesauro SIBITEC 
650 1 7 |a Películas  |x Semiconductores  |2 Tesauro SIBITEC 
650 1 7 |a Metales  |2 Tesauro SIBITEC 
650 1 7 |a Materiales híbridos  |2 Tesauro SIBITEC 
655 4 |a Libros electrónicos 
700 1 |a Kääriäinen, Tommi,  |e creador 
700 1 |a Cameron, David,  |e creador 
700 1 |a Kääriäinen, Marja Leena,  |e creadora 
700 1 |a Sherman, Arthur,  |e creador 
902 |a Xiomara  |b 2021/03/05