Resolution improvements on poly(methyl methacrylate) as electron-beam lithography resist /

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Resolution improvements on poly(methyl methacrylate) as electron-beam lithography resist /

Detalles Bibliográficos
Autor principal:	Arrieta Navarro, José Pablo 1987- (Autor/a)
Formato:	Tesis Libro
Lenguaje:	English
Publicado:	[San José], Costa Rica, 2012.
Materias:	METACRILATO DE METILO LITOGRAFIA DE HACES ELECTRONICOS DISPERSION (FISICA) MEDICION

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