Chemical vapor deposition for microelectronics : principles, technology, and applications /

Detalles Bibliográficos
Autor principal: Sherman, Arthur (Autor, Autor/a)
Formato: Libro
Lenguaje:Spanish
Publicado: Park Ridge, N.J. : Noyes, c1987.
Colección:Materials Science and Process Technology Series
Materias:
LEADER 00948nam a2200277uu 4500
001 000063674
005 20090511093911.0
008 090224s1987 xxu ||||| spa
020 |a 0815511361 
035 |a 9220149 
040 |a  Sistema de Bibliotecas de Universidad de Costa Rica  
041 0 |a spa 
082 0 |a 621.381.5  |b S553ch  |2 22 
100 1 |a Sherman, Arthur  |e Autor/a  |4 aut 
245 1 0 |a Chemical vapor deposition for microelectronics :  |b principles, technology, and applications /  |c by Arthur Sherman 
260 |a Park Ridge, N.J. :  |b Noyes,  |c c1987. 
300 |a xi, 215 páginas :  |b ilustraciones 
490 0 |a Materials Science and Process Technology Series 
650 |a SEMICONDUCTORES 
650 |a CIRCUITOS INTEGRADOS 
650 |a PLACAS (INGENIERIA) 
900 |a 2009 
912 |a 11-MAY-2009 - SANCHEZ VELASQUEZ, AURA 
917 |a 24-FEB-2009 - BUSTAMANTE MORA, CYNTHIA 
949 |a ASV -EMQ 
916 |a Centro Catalográfico